我國靶材行業(yè)急需突破人才和技術(shù)瓶頸

　　集成電路制造工藝的不斷前行，使得無論在微觀品質(zhì)，還是宏觀規(guī)格上，對靶材的質(zhì)量都提出了越來越高的要求。集成電路制造工藝的微細化、濺射用薄膜材料的多元化，要求靶材除了純度高、成分均勻等之外，還主要體現(xiàn)在靶材的致密度、晶粒尺寸、織構(gòu)、電導(dǎo)率和結(jié)合強度等方面的嚴(yán)格要求;同時，隨著晶圓尺寸的逐漸增加，要求靶材尺寸也隨之增大，在大尺寸材料的組織性能均勻性控制、高精度成型加工等方面提出挑戰(zhàn);此外，為了進一步提高靶材的使用性能，還需要對靶材的結(jié)構(gòu)進行優(yōu)化設(shè)計。這無疑對國內(nèi)靶材企業(yè)提出了新的更高的挑戰(zhàn)。

　　雖然近年來我國集成電路、平板顯示、太陽能電池等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，讓我國已逐漸成為世界上薄膜靶材大的需求地區(qū)之一，但不可否認的是，超高純?yōu)R射靶材仍需從國外進口。

　　由于國內(nèi)超高純?yōu)R射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，且受到技術(shù)、資金和人才的限制，國內(nèi)專業(yè)從事超高純?yōu)R射靶材的生產(chǎn)企業(yè)數(shù)量偏少，企業(yè)規(guī)模和技術(shù)水平參差不齊，多數(shù)國內(nèi)企業(yè)處于企業(yè)規(guī)模較小、技術(shù)水平偏低、產(chǎn)業(yè)布局分散的狀態(tài)，市場尚處于開拓初期，主要集中在低端產(chǎn)品領(lǐng)域競爭。他指出，面對激烈的國際競爭，濺射靶材產(chǎn)業(yè)專業(yè)人才的匱乏成為制約國內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展的痛點�！鞍胁牡难兄浦饕�是在企業(yè)內(nèi)實施，各靶材公司為在競爭中取得優(yōu)勢，技術(shù)均高度保密，所以該行業(yè)專業(yè)化很強，人才選擇局限于為數(shù)不多的靶材公司內(nèi)部。高校及科研院所開展濺射靶材基礎(chǔ)研究及應(yīng)用研究較少，時間也較短，研究力度也沒有靶材公司大，因此培養(yǎng)的人才，無論是在數(shù)量上還是水平上都略顯不足�！币α�軍說。他同時指出，隨著全球制造中心向中國轉(zhuǎn)移，國外靶材供應(yīng)商考慮到價格和交貨期的因素，希望實現(xiàn)本土化供應(yīng)，于是，紛紛在中國建立加工廠，這無疑使得國內(nèi)靶材業(yè)面臨的競爭更加激烈。“此外，我國超高純?yōu)R射靶材原材料制備尚需實現(xiàn)重大突破，原材料品質(zhì)一致性、關(guān)鍵技術(shù)等問題也亟待解決�！币α�軍告訴記者。

　　以鉭靶材為例剖析行業(yè)普遍存在的問題，國外同行形成的技術(shù)及產(chǎn)業(yè)鏈壁壘，給鉭靶材本土化造成技術(shù)障礙與陷阱，無法形成反饋機制。同時，國外同行的鉭靶材產(chǎn)品技術(shù)成熟穩(wěn)定，具有成本優(yōu)勢，而鉭靶材在國內(nèi)處于初始階段，生產(chǎn)成本高，不具備進入市場的成本優(yōu)勢。